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蚀刻剂
在先进的半导体工厂使用的高纯度蚀刻剂
大金公司能够提供湿·干两种高纯度蚀刻剂。蚀刻气体纯度高达99.999%,能够对应高纯度、高洁净度的要求。

特点与特性
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在BHF氟酸中添加界面活性剂形成BHF-U,将其列为一类。
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不会影响氧化膜的蚀刻效果,且可以提高润湿性、防止粒子附着、防止金属污染、抑制Si表面的蚀刻。
产品信息
品级
种类 |
品级 |
特点 |
湿蚀刻剂 |
氟化氢酸(HF)※1
(50%、49%) |
高品质(含有金属、不纯物 低) |
氟化氨(NH4F)
(40%) |
高品质(含有金属、不纯物 低) |
BHF氟酸 |
高品质(含有金属、不纯物 低) |
含界面活性剂
的BHF氟酸(BHF-U) |
渗透性提高,粒子附着降低 |
(研究开发品)
Zielex·BHF酸
(ZielexBHF) |
蚀刻品级变化抑制(和过去品相比)
其他的性能与添加了界面活性剂BHF氟酸相同 |
干蚀刻剂 |
PFC-14(CF4) |
高纯度(99.99%以上)※2 |
PFC-116(C2F6) |
PFC-C318(C4F8) |
HFC-23(CHF3) |
HFC-32(CH2F2) |
※1由于氟化氢酸(HF)是【外国汇款以及外国贸易法】的出口令附件表第一中规定的货物,出口的时候,需要向日本政府的出口许可申请等必要的手续。
※2数值是代表值。