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蚀刻剂
在最先进的半导体工厂使用的高纯度蚀刻剂
能够提供湿·干两种蚀刻剂的只有大金一家公司。每一种都是世界第一水准的高纯度蚀刻剂。
特点与特性
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在BHF氟酸中添加界面活性剂形成BHF-U，将其列为一类。
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不会影响氧化膜的蚀刻效果，且可以提高润湿性、防止粒子附着、防止金属污染、抑制Si表面的蚀刻。
产品信息
品级
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种类 |
品级 |
特点 |
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湿蚀刻剂 |
氟化氢酸(HF)※1
(50%、49%) |
高品质（含有金属、不纯物 低） |
氟化氨(NH4F)
(40%) |
高品质（含有金属、不纯物 低） |
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BHF氟酸 |
高品质（含有金属、不纯物 低） |
含界面活性剂
的BHF氟酸(BHF-U) |
渗透性提高，粒子附着降低 |
(研究开发品)
Zielex·BHF酸
(ZielexBHF) |
蚀刻品级变化抑制（和过去品相比）
其他的性能与添加了界面活性剂BHF氟酸相同 |
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干蚀刻剂 |
PFC-14(CF4) |
高纯度(99.99%以上)※2 |
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PFC-116(C2F6) |
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PFC-C318(C4F8) |
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HFC-23(CHF3) |
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HFC-32(CH2F2) |
※1由于氟化氢酸（HF）是【外国汇款以及外国贸易法】的出口令附件表第一中规定的货物，出口的时候，需要向日本政府的出口许可申请等必要的手续。
※2数值是代表值。