蚀刻剂

在最先进的半导体工厂使用的高纯度蚀刻剂

能够提供湿·干两种蚀刻剂的只有大金一家公司。每一种都是世界第一水准的高纯度蚀刻剂。

特点与特性

  • 在BHF氟酸中添加界面活性剂形成BHF-U,将其列为一类。
  • 不会影响氧化膜的蚀刻效果,且可以提高润湿性、防止粒子附着、防止金属污染、抑制Si表面的蚀刻。

产品信息

品级
种类 品级 特点
湿蚀刻剂 氟化氢酸(HF)※1
(50%、49%)
高品质(含有金属、不纯物 低)
氟化氨(NH4F)
(40%)
高品质(含有金属、不纯物 低)
BHF氟酸 高品质(含有金属、不纯物 低)
含界面活性剂
的BHF氟酸(BHF-U)
渗透性提高,粒子附着降低
(研究开发品)
Zielex·BHF酸
(ZielexBHF)
蚀刻品级变化抑制(和过去品相比)
其他的性能与添加了界面活性剂BHF氟酸相同
干蚀刻剂 PFC-14(CF4) 高纯度(99.99%以上)※2
PFC-116(C2F6)
PFC-C318(C4F8)
HFC-23(CHF3)
HFC-32(CH2F2)

※1由于氟化氢酸(HF)是【外国汇款以及外国贸易法】的出口令附件表第一中规定的货物,出口的时候,需要向日本政府的出口许可申请等必要的手续。
※2数值是代表值。

 

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